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金相造样中试样磨抛工作的主张是去除变形层(深滋扰层)露出真实样品并达到光滑平坦的观测表表。 去除变形层后获得平坦光滑无划痕的样品表表叫做样品抛光,通常使用抛光布盘+抛光液/膏/粉来实现。 |

| 抛光过程能够分为初抛和终抛两个过程, 初抛会使用浅层强支持织物往来除去薄或者预抛过程中产生的较深划痕,获取平坦的样品表表, 终抛会使用深层软支持往来除剩下的较浅的轻微划痕,达成美满光滑观测面。 |
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| 预抛时底部由硬质磨盘支持,金刚石悬浮液只能磨薄表表接触危险层并且会产生新的变形层(深滋扰层) | 预抛时底部由软质织物支持,金刚石悬浮液在解除表表接触危险层和变形层时不会产生新的变形层(深滋扰层) |

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